項目介紹：
　　隨著激光器性能的不斷提高，在眾多的薄膜制備方法中，PLD技術的應用最為廣泛，可用來制備金屬、半導體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜，甚至還用來制備一些難以合成的材料膜，如金剛石、立方氮化物膜等，并取得了很大的成功。
　　
　　工作原理：
　　在制膜腔內，用透鏡將一束強脈沖激光匯聚成一個很小的光斑，打在靶材料上，受到激光光斑照射的靶材料瞬時被氣化、電離，形成一團等離子體，高速向外噴射，從而在襯底上沉積形成一層薄膜。
　　
　　系統構成：
　　（1）、準分子激光器
　　（2）、PLD沉積系統